Intel baut neue Chip-Fabrik Intel hat im US-Bundesstaat Oregon mit dem Bau einer Fabrik begonnen, die die Prozessorfertigung auf ein neues technisches Niveau heben soll. In diesem Werk plant Intel für die Chip-Fertigung erstmals Siliziumscheiben (Wafer) einzusetzen, die einen Durchmesser von 300 Millimeter (bisher 200mm) haben. Ferner wird Intel in der neuen Fabrikationsstätte Technologien für die Herstellung von Mikroprozessoren mit Strukturbreiten von 0,13 Mikrometer und darunter entwickeln. Bislang sind Strukturbreiten von 0,25 Mikrometer Stand der Intel Technik (ein Mikrometer ist ein Tausendstel Millimeter). In dem geplanten Werk werden die Reinräume der Klasse 1 allein 14.400qm umfassen. (In Reinräumen Klasse 1 darf es pro Kubikfuß Luft lediglich ein einziges Staubpartikel geben - in einem normalen Wohnraum sind es 15 Millionen Staubpartikel pro Kubikfuß.) Die Kosten für die neue Fabrik werden mit 1,5 Milliarden US-Dollar veranschlagt. Die Inbetriebnahme ist für das Jahr 2000 geplant. Intel hat allein für das Jahr 1998 an Investitionsaufwendungen für Errichtung und Ausstattung von Produktionsstätten rund 5,3 Milliarden US-Dollar projektiert. Forschung und Entwicklung werden sich in diesem Zeitraum auf 2,8 Milliarden Dollar belaufen.